WIPO专利WO1992005240A1 Detergent composition

专利PDF首页>>WIPO专利

专利附录

专利说明

权利要求

类似技术

同族专利

引用文献

法律状态

优先权

专利摘要:

公开号:WO1992005240A1
申请号:PCT/JP1991/001129
申请日:1991-08-26
公开日:1992-04-02
发明作者:Ritsuko Hayakawa
申请人:Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd.；
IPC主号:A61K8-00

专利说明:
[0001] 明細書
[0002] 洗浄剤組成物
[0003] 技術分野
[0004] 本発明は、皮膚適用化粧品又は洗浄剤用の低刺激性防腐剤、及び低刺激性の洗浄剤組成物に関する。
[0005] 背景従来
[0006] 従来用いられてきた洗浄剤組成物（例えばシャンプー）は刺激性が強いため、かゆみの発生を促し、あるいはァレルギ一の原因となるものであり、アトピー性皮虜炎、接触皮膚炎等の皮膚疾患の患者、特に刺激に弱い患者に用いることはできなかった。
[0007] 本発明の目的は、アトピー性皮膚炎又はその他の皮膚疾患の患者、特に刺激に弱い患者に用いることのできる低刺激性の洗浄剤組成物を提供することにある。
[0008] 発明の開示
[0009] 本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねてきた。その結果、ヒノキチオール又はその塩が、皮膚に対して極めて刺激性が低く、しかも優れた防腐効果を有するものであり、化粧品や洗剤等の皮膚^:接触する組成物用の防腐剤として非常に有用であることを見出した。そして、ヒノキチオール又はその塩を防腐剤として用いると共に、界面活性剤として特定の陰イオン性界面活性剤及び両性界面活性剤の少なくとも 1種を用いる場合に、皮膚に対する刺激性が著るしく低減された洗浄剤組成物を得ることができることを見出し、ここに本発明を完成するにつた。
[0010] 即ち本発明はヒノキチオール又はその塩からなることを特徵とする皮膚疾患患者の皮膚に適用するための化粧品乃至洗浄剤用低刺激性防腐剤、並びに一般式 O R ² 0
[0011] , II I II
[0012] R ¹ C N - A - C O H ( I ) 〔式中、 R ¹ は炭素数 4 0以下の飽和又は不飽和炭化水素基を示し、 R ² は低級アルキル基を示し、 Aは低級ァルキレン基を示す〕で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩、及び一般式 0 R R ⁰ C N H - B - N© - R ^ ( Π )
[0013] I
[0014] C H 2 C O O ⁰ 〔式中、 R ³ は炭素数 4 0以下の飽和又は不飽和炭化水素基を示し、 R ⁴ 及び R ⁵ はそれぞれ低級アルキル基を示し、 Bは低級アルキレン基を示す。〕で表わされる両ィォン性界面活性剤からなる群から選ばれた少なくとも 1種の界面活性剤と、ヒノキチオール又はその塩からなる防腐剤とを含有することを特徵とする洗浄剤組成物を提供するものである。
[0015] 本明細書において低級アルキル基としては、メチル、ェチル、プロピル、イソプロピル、プチル、イソブチル、 t e r t—ブチル、ペンチル、へキシル等の炭素数 1 〜 6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を、特に好ましくはメチル基を例示できる。
[0016] 炭素数が 4 0以下の飽和又は不飽和炭化水素基としては、例えばメチル、ェチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、 t e r t—ブチル、ペンチル、へキシル、ヘプチル、ォクチル、ノニル、デシル、ゥンデシル、ドデシル、 1 1 ーメチノレドデシル、 1 0 —メチルゥンデシル、トリデシル、テトラデシル、ペン夕デシル、ヘプタデシル、ォクタデシル、ノナデシル、ィコシル、ヘンィコシル、ドコシル、テトラコシル、トリアコンチル、ペンタトリアコンチル、テトラコンチル、ビニル、ァリル、イソプロぺニル、ェチニル、 2—ペンチニル、 3—ブテニル、 9 ーデセニル、シス一 8 —ヘプタデセニル、トランス一 8 一ヘプ夕デセニル、 2—デシニル、 2 —才クチニル、ャシ油アルキル等を挙げることができ、之等の内で炭素数 5〜 1 9 の飽和又は不飽和炭化水素基は好ましく、炭素数 7〜 1 3の飽和又は不飽和炭化水素基はより好ましい。特に、前記式（ I ) 中 R ¹ で定義される該基としては、ゥンデシル、トリデシル等の炭素数 9〜 1 3の飽和炭化水素基が好ましく、また前記式（Π ) 中 R で定義される該基としては、ヤシ油アルキル基ゃゥンデシル、トリデシル等の炭素数 9〜 1 3の飽和炭化水素基が好ましい。
[0017] 低級アルキレン基としてはメチレン、エチレン、トリメチレン、 2 —メチルトリメチレン、 2， 2 —ジメチルトリメチレン、 1 —メチルトリメチレン、メチルメチレン、ェチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、へキサメチレン基等の炭素数 1〜 6個の直鎖又は分枝状のアルキレン基を挙げることができる。之等の内で前記式（ I ) 中 Aで定義される該基としては、好ましくはメチレン及びエチレン基を、より好ましくはエチレン基を例示でき、また前記式（Π ) 中 Bで定義される該基としては、好ましくはエチレン及びトリメチレン基を、より好ましくは卜リメチレン基を例示できる。
[0018] 一般式（ I ) 又は一般式（Π ) の界面活性剤は、同一の置換基を有するものだけでなく、異なる種類の置換基を有するものを混合して用いてもよい。
[0019] 一般式（ I ) で表わされる化合物の塩としては、ナトリウム、カリウム塩等のアルカリ金属塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩、 C u塩、 Z n塩等の金属塩類等の無機塩、ジエタノールアミン塩、 2 —アミノー 2 一ェチル一 1 , 3—プロパンジオール塩、トリエタノールアミン塩等のアル力ノールアミン塩、モルホリン塩、ピぺラジン塩、ピぺリジン塩等、アンモニゥム塩、アルギニン塩、リジン塩、ヒスチジン塩等の塩基性アミノ酸塩等の有機塩類を挙げることができる。塩基性アミノ酸としては、 D体、 L体又は之等の混合物のいずれも使用できる。
[0020] ヒノキチオールの塩としては、上記した一般式（ I ) の化合物の塩と同様のものを挙げることができる。
[0021] 本発明の洗浄剤組成物では、界面活性剤としては、一般式（ I ) の陰イオン性界面活性剤及び一般式（Π) の両ィォン性界面活性剤の少なくとも 1種を用いればよい。之等の界面活性剤は、優れた洗浄能力を有すると共に、皮躇に対する刺激性が非常に低いものである。本発明では、特に、一般式（ I ) の陰イオン性界面活性剤と一般式（Π) の両イオン性界面活性剤とを併用することが好ましく、併用により、洗浄性及び低刺激性が極めて良好となる。併用ォる場合には、通常一般式（ I ) の界面活性剤と一般式、Π) の界面活性剤の使用割合は、前者：後者（重量比） = 1 ： 2 0〜 2 0 ： 1の範囲、好ましくは 4 ： 1〜 1 ： 3の範囲、より好ましくは 4 ： 1〜 3 ： 2及び 3 ： 2〜 2 ： 3の範囲とすることができる。洗浄剤組成物中の界面活性剤量は、洗浄効果を充分に発揮する範囲であれば特に限定されないが、界面活性剤総量として、全組成物中の 3〜 4 0重量％とすることが好ましく、 5〜 3 0重量％とすることがより好ましい。
[0022] ヒノキチオール又はその塩の配合量は、防腐効果が発揮される量であれば特に限定されないが、洗浄剤組成物中に 0. 0 0 1重量％以上とすることが好ましく、 0. 0 0 1〜 1. 0重量％とすることがより好ましい。
[0023] ヒノキチオール又はその塩を防腐剤として用い、これを上記した界面活性剤と共に配合することによって、皮虜に対する刺激性が著るしく低減され、更に良好な洗浄性能、防腐性能等を発揮する洗浄剤組成物が得られる。
[0024] 本発明の洗浄剤組成物では、更に、（1)一般式
[0025]
[0026] 0
[0027] (Π)
[0028] 〔式中、 R₆ は炭素数 4 0以下の飽和又は不飽和炭化水素基を示し、 R ₇ はナトリウム、カリウム等のアルカリ金属；マグネシウム等のアル力リ土類金属；銅、亜鉛等の金属ィォンを示す。〕で表わされる化合物、（2)ミラノール C 2 Mコンク、ミラノール C 2 Mコンク N P、ミラノール 2 M C Aモデファイド、ミラノ一ル H M S コンク (いずれもローヌ · プーラン社（RHONE P0ULENC
[0029] SURFACTANTS & SPECIALITIES DIY. ) 製造、香栄興業株式会社（KOEI PERFUMERY CO. , LTD. ) 販売）等の通常のィミダゾリ二ゥムべタイン系両ィォン性界面活性剤等を加えることができ、これらの添加によって、例えば、眼粘膜に対する刺激を減少させることができる。添加量は、一般式（ I ) の陰ィォン性界面活性剤の 1 0〜 2 0 0重量％程度とすることが好ましい。
[0030] 本発明の洗浄剤組成物は、化粧品を使用することのできる通常の p H範囲で用いることができ、一般にその p Hは 6. 0〜 8. 0程度の範囲、好ましくは 6. 4〜 7. 5程度の範囲内とするのが好ましい。
[0031] 本発明の洗浄剤組成物には、必要に応じてその性能を損わない範囲で、他の界面活性剤や、高級アルコール等の油剤、カチオン化セルロース等の毛髪柔軟剤、グリセリン、プロピレングリコール、ソノレビット、マルチトール等の保湿剤、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセノレロース、ヒドロキシェチソレセノレロース、カノレボキシビ二ルポリマー、ポリビニルアルコール等の粘度調整剤、加水分解コラーゲン等の皮膜形成剤、エタノール等の溶剤、クェン酸、塩酸等の P H調節剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、金属封鎖剤、殺菌剤、防腐剤、無機塩、抗フケ剤、ビタミン類、消炎剤等の薬効剤、動植物抽出剤、色素、香料等を適時配合することができる。これらの添加剤は、添加によって洗浄剤組成物の刺激性が高くなり過ぎないように注意することが必要であり、例えば、ァトピー性皮膚炎の患者用の洗浄剤組成物として用いる場合には、後記試験例において示す皮膚刺激指数が 1 5程度以下となるように配合し、健常人用の洗浄剤組成物として用いる場合には、皮膚刺激指数が 3 0程度以下となるように配合することが好ましい。
[0032] 本発明の洗浄剤組成物は、その剤型については特に制限はなく、従来より公知の種々の剤型、例えば液体シャンプ一、クリーム状洗顔料、ゲル状洗顔料、ボディシャンプ一、泡状清拭料（エアゾール容器充填品）、食器等の器具用洗剤、ゥヱットティッシュ等として用いることができる。
[0033] 本発明洗浄剤組成物は、使用時に、必要に応じて適宜、水で希釈して用いてもよい。
[0034] 本発明の洗浄剤組成物は、皮膚に対する刺激性が非常に低いことに加えて、起泡性、洗浄性等の洗浄剤としての必須の性能も充分に満足するものであり、アトピー性皮膚炎又は他の皮膚疾患の患者に用いることができる他健常人に対しても有用である。
[0035] また、ヒノキチオール又はその塩は、皮膚に対する刺激性が非常に低く、医薬部外品、日用品（例えば、ぺット用シャンプー）等を含む広い範囲の洗浄剤、化粧品等の皮廣と接触する組成物中に配合する防腐剤として有用 t、める。
[0036] 実施例
[0037] 以下、実施例を示して本発明をより詳細に説明する。実施例 1
[0038] 下記配合のシャンプ一組成物を調製した。
[0039] (W/W¾)
[0040] ァラニネート L N— 3 0 * 4 0. 0
[0041] スヮノール AM— 3 1 3 0 N 1 0. 0
[0042] ヒノキチオール 0. 0 2
[0043] 9 9. 5 %エタノール 0. 8
[0044] p H調整剤、金属イオン封鎖剤適量
[0045] 水にて全量 1 0 0 W/W% (pH6. 4 )
[0046] * ァラニネート L N— 3 0 ：日光ケミカルズ株式会社製 N—ラウロイルー N—メチル ^ーァラニンナトリウムを主成分とする界面活性剤
[0047] スヮノール AM— 3 1 3 O N ：日光ケミカルズ株式会社製、ャシ油脂肪酸ァミドプロピルジメチルァミノ酢酸ベタインを主成分とする界面活性剤
[0048] 上記シャンプー組成物は、良好な洗浄性能を有するものであった。該組成物について以下の方法で皮膚刺激性を評価した。
[0049] (試験法）
[0050] 上記洗浄組成物の 1 %水溶液を染み込ませたろ紙を
[0051] Finn chamber, Scanpor tape を用いて、 4 4人の被験者に 4 8時間閉鎖貼付し、貼付除去後、 1時間と 2 4時間に皮膚反応を判定した。判定結果は、以下の基準で評点し 7»- o
[0052] 反応なし 0
[0053] わずかな紅斑 0. 5
[0054] 明らかな紅斑 1. 0
[0055] 丘疹ないし浮腫を伴う紅斑 2. 0
[0056] 貼付除去後、 1時間と 2 4時間の判定結果のうち、評点の高いほうの結果を選び、評点総和を被験者数で除し、その商の百分率を皮膚刺激指数とした。
[0057] 比較として、ラウリル硫酸ナトリウムの 0. 5 %水溶液及び精製水についても同様の皮膚刺激性試験を行なつた。結果を下記第 1表に示す。第 1 表
[0058]
[0059] 以上の結果より、本発明のシャンプー組成物が極めて低刺激性であることが判る。
[0060] 実施例 2
[0061] 下記配合のボディシャンプーを調製した。
[0062] (W/W¾) ァラノン A C E * 8 スヮノール AM— 3 1 3 0 N 4 ヒノキチオールトリエ夕ノールアミン塩 0 0 5 非ィォン性界面活性剤 ** 2 パ一ル化剤 2
[0063] P H調整剤適香料
[0064] 金属キレート剤
[0065] 水にて全量 1 0 0 W/W¾ (pH6. 4 )
[0066] * ァラノン A C E ：川研ファインケミカル株式会社製、 N—ココイル一 N—メチルー β —了ラニンナトリゥムを主成分とする界面活性剤非ィォン性界面活性剤としては花王株式会社製のエマノーン 3 1 9 9を用いた。
[0067] *** パール化剤としては日光ケミカルズ株式会社製のェステパール 1 5を用いた。
[0068] 実施例 3
[0069] 下記配合の洗顔料を調製した。
[0070] (W/W¾)
[0071] ァラノン A L E * 5
[0072] スヮノール AM— 3 1 3 O N 5
[0073] ヒノキチオール 0.
[0074] 9 9. 5 %エタノール 0
[0075] 非ィォン性界面活性剤 ** 1. 0
[0076] 非ィォン性界面活性剤 * 2. 0
[0077] p H調整剤、グリセリン M 量
[0078] 水にて全量 1 0 0 (pH7. 4 )
[0079] * ァラノン A L E ：川研フアインケミカル株式会社製、 N—ラウロイル一 N—メチル一ーァラニンナ小リウムを主成分とする界面活性剤
[0080] 非ィォン性界面活性剤としては、川研ファインケミカル株式会社製のァミゼット 5 Cを用いた。
[0081] * 非イオン性界面活性剤としては花王株式会社製のェマノーン 3 2 9 9を用いた。実施例 4
[0082] 下記配合の清拭料を調製した。
[0083] (W/W¾)
[0084] ァラニネート L N— 3 0 2
[0085] ァラノン A M E *
[0086] p H調整剤週量
[0087] ヒノキチオール · ナトリウム塩
[0088] 9 9. 5 %エタノール 3
[0089] 水にて全量 l o o ( P H7. o )
[0090] * ァラノン A M E ：川研ファインケミカル株式会社製、 N— ミリストィル一 N—メチル一）8—ァラニンナトリウムを主成分とする界面活性剤
[0091] 実施例 5
[0092] 下記配合の器具洗浄料を調製した。
[0093] (W/W¾) ァラノン A C E 1 5
[0094] スヮノール AM— 3 1 3 0 N 5
[0095] ヒノキチオールトリエタノールアミン塩 0. 0 1 ヒノキチオール · L—アルギニン塩 0. 0 0 p H調整剤
[0096] 色素 · 香料 · グリセリン週量
[0097] 水にて 0 0 W/W¾ (pH6. 4 ) 実施例 6
[0098] 下記配合のボディシャンプーを調製した
[0099] ( /W¾) ニッコールサルコシネート L K一 3 0 * 0 0 スヮノール AM— 3 1 3 O N 5 0 ミラノール C 2 Mコンク！ 0 0 ヒノキチオール 0 0
[0100] 9 9. 5 %エタノール 0 5
[0101] P H調整剤
[0102] 水にて全量 1 0 0W/W% (p H = 7. 5 )
[0103] * ニッコールサルコシネート L K一 3 0 ：日光ケミカルズ株式会社製のラゥロイルザルコシン力リゥムを主成分とする界面活性剤
[0104] ミラノール C 2 Mコンク：香栄興業株式会社製のヤシ油アルキル N—力ルポキシメトキシェチルー N—カルボキシメチルイミダゾリニゥムジナトリゥムヒドロキシドを主成分とする界面活性剤
[0105] 実施例 Ί
[0106] 下記配合の洗顔料を調製した。
[0107] g/TO
[0108] ァラニネート L N— 3 0 3 0. 0 スヮノール AM 3 1 3 O N 2 0. 0 5 ミラノ一ノレ C 2 Mコンク 5. 0 濃グリセリン 5. 0 ヒノキチオール 0. 0 0 5 9 9. 5 %エタノール 0. 2 パール化剤、増粘剤、 p H調整剤適
[0109] 水にて全 0 0 W/W¾ (pH6. 8 ) 実施例 8
[0110] 下記配合の洗顔料を調製した。
[0111] (W/W¾) ァラニネート L N— 3 0 5. 0 スヮノール AM 3 1 3 0 N 0. 0 ミラノール C 2 Mコンク 2. 0 ヒノキチオールトリエタノールアミン塩 0. 0 0 5 パール化剤、 p H調整剤、香料、色素適量
[0112] 水にて全量 1 0 0 (pH7. 5 ) 実施例 9
[0113] 下記配合のボディシャンプーを調製した。
[0114] (W/W¾) ァラニネート L N— 3 0 . 5. 0 スヮノール AM 3 1 3 O N 1. 5 パール化剤、増粘剤、過脂肪剤
[0115] P H調整剤、金属キレート剤、保湿剤 M 重ヒノキチオールモルホリン塩 0 . 0 2 水にて全量 1 0 0 W/W% ( p H 6 . 8 ) 実施例 1 0〜 4 4
[0116] 第 2〜 4表に示す化合物を用いて、第 5表に示す組成 (重量の洗浄剤組成物を調製し、皮膚刺激性を評価した。試験方法は、実施例 1 と同様とし、被験者は 2 0 人とした。皮膚刺激性について、次の基準で評価した結果を第 5表に併記する。対照として、精製水及びラウリル硫酸ナトリウムの 0 . 5 %水溶液について同様の試験を行なった結果を第 6表に示す。
[0117] 皮膚刺激指数 1 0以下一
[0118] 皮膚刺激指数 1 1〜 3 0 +
[0119] 皮膚刺激指数 3 1以上 + +
[0120] また上記各組成物の p Hを測定した結果を第 7表に示す o
[0121] 第 2 表
[0122] 一般式（ I ) の化合物
[0123]
[0124] 3
[0125] 般式（ Π ) の化合物
[0126] 第 4 表第 6 表
[0127] 皮膚刺激性ラウリル硫酸ナトリウムの 0. 5 %水溶液 + +
[0128] 5 実施例
[0129] 10 11 12 13 14 15
[0130] A-1 15 10 20
[0131] A-2 5 7
[0132] A-3 3
[0133] A— 4 0.5
[0134] A-5
[0135] A— 6
[0136] B-l 10 15 10
[0137] B-2 1
[0138] B-3 3
[0139] B-4
[0140] B-5 5 7
[0141] B-6
[0142] C-l 0.005 0.01 0.05 0.01 0.001
[0143] C-2 0.01
[0144] C-3
[0145] エタノ-ル 0.1 0.1 0.5 0.2 0.05 0 水 < 部一 > 皮膚籠性 >
[0146] 5 表（続き）実施例
[0147] 16 17 18 19 20 21
[0148] A - 1 10 10 10 10 15 10
[0149] A-2
[0150] A - 3 5
[0151] A-4
[0152] A-6 1
[0153] B - 1 10 10
[0154] B-2
[0155] B-3
[0156] B-4 1
[0157] B-5 10 5.0 10
[0158] B - 6 1
[0159] C一 1 0.01 0.5 0.05 0.02
[0160] C-2 0.1 0.5
[0161] C-3 0.01
[0162] エタノ-ル 0 0.2 0 1.0 1.0 1.0 水 < 残部 > 皮脔性第 5 表（続き）実施例
[0163] 22 23 24 25 26
[0164] A-1 5.0 20.0 3.0
[0165] A - 2 7.0
[0166] A - 3 3.0
[0167] A-4
[0168] A-5 7.0
[0169] A— 6
[0170] B-l
[0171] B-2
[0172] B— 3
[0173] B— 4 3.0
[0174] B-5 15.0 20.0 7.0 10.0
[0175] B - 6
[0176] C-l 0.001 0.05 0.05 0.005 0.05
[0177] C-2
[0178] C-3
[0179] エタノ-ル 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 水 15 > 皮纖性第 5 表（続き）施例
[0180] 27 28 29 30 31
[0181] A— 1 2 1 3 17 22
[0182] A - 2
[0183] A— 3
[0184] A - 4
[0185] A-5
[0186] A-6
[0187] B— 1
[0188] B-2
[0189] B— 3
[0190] B-4
[0191] B-5 1 2 2 13 18
[0192] B-6
[0193] C - 1 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02
[0194] C-2
[0195] C-3
[0196] エタノ-ル 0.1 0.8 0.8 0.8 0.8 水 < 残部 > 皮f龍性 o
[0197] 第 5 表（続き）施例
[0198] 32 33 34 35 36 37 38
[0199] A-1 12 12 12
[0200] A— 2
[0201] A— 3
[0202] A-4
[0203] A-5
[0204] A— 6
[0205] A— 7 12
[0206] A— 8 12
[0207] A— 9 12 -
[0208] A— 10 12
[0209] B— 1
[0210] B-2
[0211] B— 3
[0212] B-4
[0213] B— 5 10 10 1土 ( U) 10 10
[0214] B-6
[0215] B-7 10
[0216] B— 8 10
[0217] B-9
[0218] C一 1 1.0 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02
[0219] C-2 エタノ-ル 0.8 0.8 0.8 0.8 0.8 0.8 0.8 水部
[0220] 皮膚龍性第 5 表（続き）実施例
[0221] 39 40 41 42 43 44
[0222] A-1 12 2 4 20 1
[0223] A— 2
[0224] A— 3
[0225] A— 4
[0226] A— 5
[0227] A-6
[0228] A— 7
[0229] A— 8
[0230] A— 9
[0231] A— 10
[0232] A-11 12
[0233] B-l
[0234] B-
[0235] B-3
[0236] B-4
[0237] B-5 3 1 1
[0238] 丄 o Ln U
[0239] B— 6
[0240] B— 7
[0241] B— 8
[0242] B— 9 10 10
[0243] C-l 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02
[0244] C-2
[0245] C一 3
[0246] エタノ-ル 0.8 0.8 0.8 0.8 0.8 0.8 水 < 部一 > 皮鹰籠性 5 表（続き）実施例
[0247] 45 46 47
[0248] A-1 12
[0249] A— 2
[0250] A— 3 12
[0251] A-4
[0252] A-5 12
[0253] A-6
[0254] A— 7
[0255] A— 8
[0256] A— 9
[0257] A— 10
[0258] A— 11
[0259] B— 1
[0260] B— 2
[0261] B-3
[0262] B-4
[0263] B— 5 3 3 3
[0264] B— 6
[0265] B-7
[0266] B— 8
[0267] B-9
[0268] C-l 1.0 0.02 0.02
[0269] C-2
[0270] C一 3
[0271] エタノ-ル 0.8 0.8 0.8 水 < ~残部 > 皮虞性 7
[0272]
[0273] C
[0274] -
[0275] 実施例 4 5
[0276] 下記配合の洗顔料を調製した。
[0277] (W/W%) ァラニネート L N— 3 0 1 5 0 スヮノール AM 3 1 3 0 N 1 0 0 ミラノール C 2 Mコンク 2 0 ヒノキチオール 0 0 4
[0278] 9 9. 5 %エタノール 0 7 6 パール化剤、 p H調整剤、保湿剤
[0279] 水にて全量 1 0 0W/Wi¾ (pH7. 2 ) 実施例 4 6
[0280] 下記配合のボディシャンプーを調製した。
[0281] (W/W¾) ァラニネート L N— 3 0 1 5. 0 スヮノール AM 3 1 3 0 N 1 1. 5 ミラノール C 2 Mコンク 2. 5 ヒノキチオール 0. 0 4 9 9. 5 %エタノール 0. 7 6 パール化剤、 p H調整剤、保湿剤
[0282] 水にて全量 1 0 0W/W¾J (pH6. 5 実施例 4 7
[0283] 下記配合のシャンプ一組成物を調製した。 (W/W¾) ァラニネート L N— 3 0 4 0. 0 スヮノール AM 3 1 3 0 N 1 0. 0 ヒノキチオール 0. 0 4
[0284] 9 9. 5 %エタノール 0. 7 6 p H調整剤、 _金属ィォン封鎖剤量水にて全量 1 0 0W/W% (pH6. 4 )

权利要求:
Claims請求の範囲
1. ヒノキチオール又はその塩からなることを特徵とする皮膚疾患患者の皮膚に適用するための化粧品乃至洗浄剤用低刺激性防腐剤。
2. —般式
O R² 0
, II ！ II
R¹ C N - A - C O H ( I ) 〔式中、 R¹ は炭素数 4 0以下の飽和又は不飽和炭化水素基を示し、 R² は低級アルキル基を示し、 Aは低級アルキレン基を示す〕
で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩、及び一 ¾k式
0 R
II I ,
R^d C NH - B - N® - R^¾ (Π) C H 2 C O O®
〔式中、 R³ は炭素数 4 0以下の飽和又は不飽和炭化水素基を示し、 R⁴ 及び R⁵ はそれぞれ低級アルキル基を示し、 Bは低級アルキレン基を示す。〕 ' で表わされる両ィォン性界面活性剤からなる群から選ばれた少なくとも 1種の界面活性剤と、ヒノキチォ一ル又はその塩からなる防腐剤とを含有することを特徴とする洗浄剤組成物。
3. —般式（ I ) で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩と、一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを併用し、更に (1)一般式
0
(M)
〔式中、 R₆ は炭素数 4 0以下の飽和又は不飽和炭化水素基を示し、 R ₇ はナトリウム、カリウム等のァルカリ金属；マグネシウム等のアル力リ土類金属；銅、亜鉛等の金属イオンを示す。〕
で表わされる化合物並びに (2)ミラノール C 2 Mコンクミラノール C 2 Mコンク N P、ミラノール 2 M C Aモデフアイド及びミラノール HM Sコンクから選ばれるィミダゾリニゥムべタイン系両ィォン性界面活性剤を含有する請求の範囲第 2項に記載の洗浄剤組成物。
4. 一般式（ I ) で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩と、一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とが、前者：後者（重量比） = 1 ： 2 0〜
2 0 : 1で併用され、イミダゾリニゥムべタイン系両イオン性界面活性剤が一般式（ I ) で表わされる陰ィォン性界面活性剤の 1 0〜 2 0 0重量％含有され、且つ界面活性剤を 3〜 4 0重量％、ヒノキチオール又はその塩を 0. 0 0 1重量％以上含有する請求の範囲第 3項に記載の洗浄剤組成物。
5. R¹ 及び R³ が炭素数 5〜 1 9の炭化水素基である界面活性剤を用い、該界面活性剤を 5〜 3 0重量％、ヒノキチオール又はその塩を 0. 0 0 1〜 1. 0重量 %含有する請求項の範囲第 4項に記載の洗浄剤組成物。
6. R ¹ 及び R ³ が炭素数 7〜 1 3の炭化水素基である界面活性剤を用いる請求の範囲第 5項に記載の洗浄剤組成物。
7. ミラノール C 2 Mコンク N P、ミラノール 2 M C A モデフアイド及びミラノ一ル HM Sコンクから選ばれるイミダゾリニゥムべタイン系両ィォン性界面活性剤を含有し、 Aがエチレンで、 Bがトリメチレンである請求の範囲第 6項に記載の洗浄剤組成物。
8. —般式（ I ) で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩と一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 4 ： 1〜 2 ： 3 で併用し、且つ p Hが 6. 4〜 7. 5の範囲にある請求の範囲第 7項に記載の洗浄剤組成物。
9. R¹ 及び R³ が炭素数 9〜 1 3の飽和炭化水素基である請求項の範囲第 8項に記載の洗浄剤組成物。
1 0. R ¹ がゥンデシル又はトリデシル基で、 R ³ がャシ油アルキル、ゥンデシル又はトリデシル基である請求項の範囲第 9項に記載の洗浄剤組成物。
1 1. —般式（ I ) で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩と一般式（Π ) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 4 ： 1〜 3 ： 2で用いる請求の範囲第 1 0項に記載の洗浄剤組成物。
1 2. —般式（ I ) で表わされる陰ィォン性界面活性剤又はその塩と一般式（π ) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 3 ： 2〜 2 ： 3で用いる請求の範囲第 1 0項に記載の洗浄剤組成物。
1 3. —般式（ I ) で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩と、一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを併用する請求の範囲第 2項に記載の洗浄剤組成物。
1 4. 一般式（ I ) で表わされる陰ィォン性界面活性剤又はその塩と一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 1 ： 2 0〜
2 0 ： 1で併用する請求の範囲第 1 3項に記載の洗浄剤組成物。
1 5. 界面活性剤を 3〜 4 0重量、ヒノキチオール又はその塩を 0. 0 0 1重量％以上含有する請求の範囲第 1 4項に記載の洗浄剤組成物。
1 6. 界面活性剤を 5〜 3 0重量％、ヒノキチオール又はその塩を 0. 0 0 1〜 1. 0重量％含有する請求の範囲第 1 5項に記載の洗浄剤組成物。
1 7. R ¹ 及び R ³ が炭素数 5〜 1 9の炭化水素基である請求の範囲第 1 5又は 1 6項に記載の洗浄剤組成物。
1 8. 一般式（ I ) で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩と一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 4 ： 1〜 1 _: 3で併用する請求の範囲第 1 7項に記載の洗浄剤組成物。
1 9. 一般式（ I ) で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩と一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 4 ： 1〜 2 ： 3で併用する請求の範囲第 1 8項に記載の洗浄剤組成物。
2 0. R ¹ 及び R ³ が炭素数 7〜 1 3の炭化水素基である請求項 1 5又は 1 6に記載の洗浄剤組成物。
2 1. —般式（ I ) で表わされる陰ィォン性界面活性剤又はその塩と一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 4 ： 1〜 1 ： 3で併用する請求の範囲第 2 0項に記載の洗浄剤組成物。
2. —般式（ I ) で表わされる陰ィォン性界面活性剤又はその塩と一般式（ Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 4 ： 1〜 2 ·· 3で併用する請求の範囲第 2 1項に記載の洗浄剤組成物。
3. R ² 、 R ⁴ 及び R ⁵ がメチル基、 Aがメチレン又はエチレン、 Bがエチレン又はトリメチレンである請求の範囲第 1 7項に記載の洗浄剤組成物。
4. —般式（ I ) で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩と一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 4 _: 1〜 1 ： 3で併用する請求の範囲第 2 3項に記載の洗浄剤組成物。
5. —般式（ I ) で表わされる陰ィォン性界面活性剤又はその塩と一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 4 ： 1〜 2 _: 3で併用する請求の範囲第 2 4項に記載の洗浄剤組成物。
6. Aがエチレンで、 Bがトリメチレンである請求の範囲第 2 0に記載の洗浄剤組成物。 . 3 6 7. 一般式（ I ) で表わされる陰ィォン性界面活性剤又はその塩と一般式 (Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 4 _: 1〜 1 _: 3で併用し且つ p Hが 6. 0〜 8. 0である請求の範囲第 2 0項に記載の洗浄剤組成物。
8. 一般式（ I ) で表わされる陰ィォン性界面活性剤又はその塩と一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 4 _: 1〜2 ： 3で併用し且つ p Hが 6. 4〜 7. 5である請求の範囲第 2 7項に記載の洗浄剤組成物。
9. 一般式（ I ) で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩と一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 4 _: 1〜 3 ： 2で併用する請求の範囲第 2 8項に記載の洗浄剤組成物。
0. —般式（ I ) で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩と一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 3 ： 2〜 2 ： 3で併用する請求の範囲第 2 8項に記載の洗浄剤組成物。
1. R ¹ 及び R ³ が炭素数 9〜 1 3の炭化水素基である請求項 2 7に記載の洗浄剤組成物。
2. 一般式（ I ) で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩と一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 4 ： 1〜 2 ： 3で併用し且つ p Hが 6. 4〜 7. 5である請求の範囲第 2 7項に記載の洗浄剤組成物。
3. 一般式（ I ) で表わされる陰ィォン性界面活性剤又はその塩と一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 4 ： 1〜 3 ： 2で併用する請求の範囲第 3 2項に記載の洗浄剤組成物。
4. 一般式（ I ) で表わされる陰ィォン性界面活性剤又はその塩と一般式（Π) で表わされる両イオン性界面活性剤とを、前者：後者（重量比） = 3 ： 2〜 2 ： 3で併用する請求の範囲第 3 2項に記載の洗浄剤組成物。
5. R ¹ がゥンデシル又はトリデシル基で、 R ³ がャシ油アルキル、ゥンデシル又はトリデシル基である請求項の範囲第 3 2項に記載の洗浄剤組成物。
6. R ¹ がゥンデシル又はトリデシル基で、 R ³ がャシ油アルキル、ゥンデシルはトリデシル基である請求項の範囲第 3 3項に記載の洗浄剤組成物。
7. R ¹ がゥンデシル又はトリデシル基で、 R ³ がャシ油アルキル、ゥンデシル又はトリデシル基である請求項の範囲第 3 4項に記載の洗浄剤組成物。

类似技术:

公开号 | 公开日 | 专利标题

US6110451A|2000-08-29|Synergistic combination of cationic and ampholytic polymers for cleansing and/or conditioning keratin based substrates

CA2231809C|2008-02-19|Body wash composition to impart conditioning properties to skin

EP1032363B1|2003-02-05|Conjugated linoleic acid delivery system in cosmetic preparations

AU658199B2|1995-04-06|Composition for the cleaning of skin, scalp and hair

TWI237569B|2005-08-11|Foaming oil gel compositions

KR970001645B1|1997-02-13|헤어 샴푸

TW510801B|2002-11-21|Skin toning formulation

US3950417A|1976-04-13|High-lathering non-irritating detergent compositions

US6241971B1|2001-06-05|Hair styling compositions comprising mineral salt, lipophilic material, and low levels of surfactant

DE60009740T2|2005-03-31|Reinigungszusammensetzung

US20140094423A1|2014-04-03|Aqueous hair cleansing agent

CA2107993C|2002-05-28|Disinfecting shampoo composition for animals

US6410593B1|2002-06-25|Antidandruff compositions

JP3819765B2|2006-09-13|ふけ形成抑制効果を有する毛髪化粧料組成物

TW449485B|2001-08-11|Skin care products containing anti itching/anti irritant agents

EP1216696B1|2006-03-08|Method for reducing the appearance of dark circles under the eyes

TW378156B|2000-01-01|A cleaning composition for preventing skin dryness

JP4670366B2|2011-04-13|皮膚化粧料

EP0767781B1|1999-03-31|Nouveaux derives d'ammoniums quaternaires, leur procede de preparation et leur utilisation comme agents de surface

EP1035832B1|2002-09-11|Skin care composition with improved skin hydration capability

US7504370B2|2009-03-17|Detergent composition

KR100667611B1|2007-01-15|오일성 원료 조성물

US4495079A|1985-01-22|Facial skin cleanser capable of softening and removing sebum plaque

CA2413889C|2011-01-25|Wipe with improved cleansing

US20030228272A1|2003-12-11|Novel antidandruff conditioning shampoo

同族专利:

公开号 | 公开日

CN1054156C|2000-07-05|

US5527492A|1996-06-18|

DK61292A|1992-07-13|

GB9209692D0|1992-07-08|

DE69128614T2|1998-05-20|

NL9120008A|1992-08-03|

CN1059933A|1992-04-01|

DE69128614D1|1998-02-12|

DK176254B1|2007-05-07|

ES2086254B1|1997-01-01|

ES2086254A1|1996-06-16|

DK61292D0|1992-05-11|

GB2253631B|1995-01-11|

SE512888C2|2000-05-29|

GB2253631A|1992-09-16|

SE9201456L|1992-06-26|

EP0500946A1|1992-09-02|

EP0500946A4|1994-02-02|

EP0500946B1|1998-01-07|

SE9201456D0|1992-05-08|

KR100197543B1|1999-06-15|

引用文献:

公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题

JPH02243607A|1989-03-16|1990-09-27|Arusoa Sogo Kenkyusho:Kk|Antiseptic agent for cosmetic and cosmetic containing same|WO1995034210A1|1994-06-15|1995-12-21|Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd.|Composition contenant du hinokitiol, placee dans un recipient de polyester|

US5811114A|1996-06-12|1998-09-22|E-L Management Corp.|Stabilized hinokitiol and compositions containing same|

US9622951B2|2012-10-29|2017-04-18|The Procter & Gamble Company|Personal care compositions|JPS5443054B2|1972-04-28|1979-12-18|||

US3957970A|1974-06-06|1976-05-18|American Cyanamid Company|Improved shampoo containing an ester of polyethylene glycol, urea or thiourea and a polysiloxane|

US4147782A|1976-06-24|1979-04-03|William H. Rorer, Inc.|Pharmaceutical detergent composition|

US4181634A|1977-06-17|1980-01-01|Johnson & Johnson|Mild cleansing compositions comprising an alkyleneoxylated bisquaternary ammonium compound and an anionic or amphoteric detergent such as a phosphobetaine|

US4361581A|1979-08-10|1982-11-30|Yasuaki Fukuda|Skin-beautifying cosmetic composition|

JPS621923B2|1981-01-19|1987-01-16|Kao Corp||

JPH0461914B2|1984-03-16|1992-10-02|Kawaken Fine Chemicals Co||

NZ213989A|1984-10-30|1988-07-28|Seiwa Tech Lab|Preserving biodegradable products using hinokitiol-2,4,6-cycloheptatrien-1-one) and packaging materials therefor|

JP2586895B2|1987-02-27|1997-03-05|日本ゼオラ株式会社|口腔用組成物|

WO1989002731A1|1987-10-02|1989-04-06|Shiseido Co. Ltd.|Hair tonic|

US5084212A|1989-12-29|1992-01-28|The Procter & Gamble Company|Ultra mild surfactant with foam enhancer|DE4202964A1|1992-02-01|1993-08-05|Wella Ag|Haar- und koerperbehandlungsmittel|

US5792737A|1994-11-07|1998-08-11|Th. Goldschmidt Ag|Mild, aqueous, surfactant preparation for cosmetic purposes and as detergent|

WO1997002025A1|1995-06-30|1997-01-23|P And Pf Co., Ltd.|Antibacterial/bactericidal/antiseptic agent, dermatologic preparation, and detergent composition|

DE19927171A1|1999-06-15|2000-12-21|Cognis Deutschland Gmbh|Wäßrige Perlglanzkonzentrate|

US6554620B1|2000-09-28|2003-04-29|Jcs Co Ltd|Aqueous disinfectant/sterilizing agent for foods|

FR2821746B1|2001-03-12|2004-12-03|Oreal|Utilisation de complexes formes par l'association d'un derive de la tropolone et d'un sel metallique divalent comme agents de lutte contre les etats desquamatifs du cuir chevelu|

JP2003102373A|2001-09-28|2003-04-08|Jcs:Kk|食鳥肉の殺菌方法|

US20030100254A1|2001-11-29|2003-05-29|Kazuo Iwai|Method of sterilizing mammal carcasses|

FR2848114B1|2002-12-10|2006-08-04|Helvederm Sa|Composition a base d'hinokitiol pour les soins d'hygiene.|

US20080050320A1|2006-08-23|2008-02-28|Ariel Haskel|Skin care compositions containing a hydrophobic material and related methods|

US20080175807A1|2007-01-24|2008-07-24|Fujifilm Corporation|Composition for hair|

JP2009040746A|2007-08-10|2009-02-26|Sansho Kaken Kk|化粧液|

DE102008028154A1|2008-06-14|2010-06-02|Scherz, Wilhelm, Dipl.-Ing. |Hautpflegetuch und Verfahren zu seiner Herstellung|

LT2424374T|2009-05-01|2018-04-25|Advanced Vision Research, Inc.|Valiklio kompozicijos ir jų panaudojimo būdai|

JP5086467B1|2011-08-30|2012-11-28|株式会社ピーアンドピーエフ|洗浄剤組成物|

CN103126926B|2011-11-23|2016-01-27|苏州维美生物科技有限公司|一种含有n-月桂酰-l-丙氨酸钠盐或钾盐作为表面活性剂的洗面奶|

CN103126939B|2011-11-23|2016-02-17|苏州维美生物科技有限公司|一种含有n-月桂酰-l-丙氨酸钠盐或钾盐作为表面活性剂的沐浴露|

CN103126921B|2011-11-23|2016-01-13|苏州维美生物科技有限公司|一种含有n-月桂酰-l-丙氨酸钠盐或钾盐作为表面活性剂的洗手液|

CN103126925A|2011-11-23|2013-06-05|苏州维美生物科技有限公司|一种含有n-月桂酰-l-丙氨酸钠盐或钾盐作为表面活性剂的洗发香波|

US20150173355A1|2012-08-06|2015-06-25|Isp Investments Inc.|Eco-friendly non-aqueous antimicrobial composition comprising hinokitiol with 1,3-propanediol and/or sorbitan caprylate|

法律状态:
1992-04-02| AK| Designated states|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): AU CH DK ES GB JP KR NL SE US |

1992-04-02| AL| Designated countries for regional patents|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): AT BE CH DE DK ES FR GB GR IT LU NL SE |

1992-05-11| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: 1991914680 Country of ref document: EP |

1992-05-14| ENP| Entry into the national phase|Ref document number: 9250027 Country of ref document: ES Kind code of ref document: A |

1992-05-14| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: P009250027 Country of ref document: ES |

1992-09-02| WWP| Wipo information: published in national office|Ref document number: 1991914680 Country of ref document: EP |

1996-06-16| WWP| Wipo information: published in national office|Ref document number: 9250027 Country of ref document: ES Kind code of ref document: A |

1997-01-01| WWG| Wipo information: grant in national office|Ref document number: 9250027 Country of ref document: ES Kind code of ref document: A |

1998-01-07| WWG| Wipo information: grant in national office|Ref document number: 1991914680 Country of ref document: EP |

2010-04-22| WWX| Former pct application expired in national office|Ref document number: 9250027 Country of ref document: ES Kind code of ref document: A |

优先权:

申请号 | 申请日 | 专利标题

JP24418290||1990-09-14||

JP2/244182||1990-09-14||

JP41415390||1990-12-06||

JP2/414153||1990-12-06||

JP3/73053||1991-04-05||

JP7305391||1991-04-05||

JP13762291||1991-06-10||

JP3/137622||1991-06-10||EP91914680A| EP0500946B1|1990-09-14|1991-08-26|Detergent composition|

KR1019920701134A| KR100197543B1|1990-09-14|1991-08-26|세정제 조성물|

AU83939/91A| AU644678B2|1990-09-14|1991-08-26|Detergent composition|

NL9120008A| NL9120008A|1990-09-14|1991-08-26|Weinig irriterend conserveringsmiddel, alsmede reinigingsmiddelsamenstelling, die dit bevat.|

DE69128614T| DE69128614T2|1990-09-14|1991-08-26|Reinigungsmittelzusammensetzung|

CH1556/92A| CH683344A5|1990-09-14|1991-08-26|Waschmittelzusammensetzung.|

GB9209692A| GB2253631B|1990-09-14|1992-05-06|Detergent composition|

SE9201456A| SE512888C2|1990-09-14|1992-05-08|Detergentkomposition innehållande hinokitol såsom antiseptiskt medel|

DK199200612A| DK176254B1|1990-09-14|1992-05-11|Detergentkomposition indeholdende hinokitol som antiseptisk middel|

[返回顶部]